Approfondissement en imagerie au MEB et en microanalyse X

Code Stage : FCEA02

Tarifs

2 625 €

Individuels : vous ne bénéficiez d'aucune prise en charge ou vous êtes demandeur d'emploi ? Découvrez nos tarifs adaptés à votre situation

Nombre d'heures

25

23 mars 2026 - 27 mars 2026
Approfondissement des connaissances théoriques et pratiques en imagerie au microscope électronique à balayage et en microanalyse X quantitative

Stage de 4,5 jours.
Nombre maximum de stagiaires : 10

Responsable

François Brisset (Dr), Ingénieur de recherches au CNRS et à L'Institut de Chimie Moléculaire et des Matériaux d'Orsay (ICMMO).
Organisé en collaboration avec ICMMO Université Paris Saclay, Onera, BRGM, Université Paris-Sorbonne.

Public, conditions d’accès et prérequis

Toute personne devant utiliser régulièrement un MEB et un système de microanalyse EDS (et/ou WDS) et en ayant déjà utilisé un MEB et un EDS (ou un WDS).

Prérequis

Le suivi de ce stage suppose une expérience pratique professionnelle dans le domaine de l'observation des matériaux solides par microscopie électronique à balayage et à la microanalyse EDS (ou WDS) correspondant aux acquis du niveau du stage : "Introduction à la microscopie électronique à balayage" (EA01).

Objectifs

Objectifs pédagogiques

  • Préciser et approfondir les connaissances nécessaires à un travail efficace sur les MEBs et à une interprétation meilleure des résultats d’analyse X,
  • Étudier les divers phénomènes physiques rencontrés lors des interactions entre un faisceau électronique et la matière,
  • Rechercher les conditions optimales d'observation de ses propres échantillons,
  • Approfondir la théorie et la pratique de la microanalyse X quantitative sur massif ou stratifiés,
  • Améliorer sa maîtrise de la qualité de l'imagerie électronique et de l'analyse X,
  • Savoir identifier des problèmes lies aux équipements.

Compétences visées

  • Comprendre ses images et ses microanalyses,
  • Connaitre les phénomènes physiques, les utiliser à bon escient,
  • Résoudre les problèmes éventuels et maitriser ces images et microanalyses.

Les + du stage

  • Atout 1 : Les bases théoriques révisées et avec un accent sur la microanalyse X quantitative,
  • Atout 2 : Une journée de travail sur les équipements avec des utilisateurs expérimentés,
  • Atout 3 : De nouvelles notions sur les systèmes d’analyses WDS et EBSD et du travail sur les matériaux polymères,
  • Atout 4 : A la fin, une révision de tous les points importants et vus durant la semaine à l’aide d’un quiz.

Enquête de satisfaction

Cnam Entreprises étant dans une démarche d’amélioration continue, une enquête de satisfaction devra être complétée à la fin de la formation par chacun des stagiaires. Dans le cas d’un cursus, chaque unité d’enseignement (UE) sera évaluée individuellement.

Voir aussi les formations en

Programme

Jour 1
Accueil et interactions électrons matière, émission X.

Jour 2
MEB, détecteurs et technologie EDS, qualité de l’imagerie et de la Microanalyse X, introduction à l’analyse quantitative, échantillons stratifiés.

Jour 3
Technologie WDS (MEB et microsonde) Analyse quantitative et modèles de correction X, analyses avec témoins. Les matériaux isolants en MEB, les polymères et leur préparation.

Jour 4
Journée entière sur les appareils, mise en pratique des notions thoriques

Jour 5
L’analyse EBSD, les erreurs possibles en analyse X, la métallisation et la maintenance des équipements

Moyens pédagogiques

Une journée et demi avec les appareils MEB-EDS pour mettre en valeur les connaissances théoriques vues auparavant en salle de cours.

Contact

Posez-nous vos questions via ce formulaire (cliquer ici) ou en appelant le 01 58 80 89 72
Du lundi au vendredi, de 09h30 à 17h00

Centre(s) d'enseignement

Complément lieu

Paris 3ème

1 journée de session pratique à l'Université Paris-Saclay (Orsay)

Déjeuners inclus

Session(s)

du 23 mars 2026 au 27 mars 2026

23/03/2026    24/03/2026    25/03/2026    26/03/2026    27/03/2026